Concept
Ion beam figuring
A subtractive fabrication technique in which a focused beam of inert-gas ions, usually argon, is rastered across an optical surface to sputter away material one atom at a time. Because no tool touches the surface, the process avoids the sub-surface damage of conventional polishing. It is the only known method capable of producing the picometre-scale figure tolerances required for EUV mirrors.
一种减材制造技术，利用惰性气体离子（通常是氩气）的聚焦束扫描光学表面，以一次溅射掉一个原子的方式去除材料。由于没有机械工具接触表面，该过程避免了传统抛光带来的亚表面损伤。这是目前唯一已知能够达到极紫外（EUV）反射镜所要求的皮米级面形公差的方法。
Técnica de fabricación sustractiva en la que un haz enfocado de iones de gas inerte, normalmente argón, barre una superficie óptica para pulverizar el material átomo a átomo. Al no haber contacto físico, evita el daño subsuperficial del pulido convencional. Es el único método capaz de lograr las tolerancias a escala de picómetros para los espejos de EUV.
تقنية تصنيع طرحية يتم فيها توجيه شعاع مركز من أيونات الغاز الخامل، عادة الأرجون، عبر سطح بصري لرش المواد ذرة تلو أخرى. نظراً لعدم ملامسة أي أداة للسطح، تتجنب العملية التلف تحت السطحي للصقل التقليدي. وهي الطريقة الوحيدة المعروفة القادرة على إنتاج تفاوتات الشكل بمقياس البيكومتر المطلوبة لمرايا الأشعة فوق البنفسجية.
Técnica de fabrico subtrativa na qual um feixe focado de iões de gás inerte, normalmente árgon, é projetado sobre uma superfície ótica para remover material átomo a átomo. Como nenhuma ferramenta toca na superfície, o processo evita os danos subsuperficiais do polimento convencional. É o único método capaz de produzir as tolerâncias de picómetros exigidas nos espelhos EUV.
एक घटिया निर्माण तकनीक जिसमें अक्रिय-गैस आयनों, आमतौर पर आर्गन, के एक केंद्रित बीम को एक ऑप्टिकल सतह पर घुमाया जाता है ताकि एक समय में एक परमाणु सामग्री को हटाया जा सके। चूंकि कोई भी उपकरण सतह को नहीं छूता है, इसलिए यह प्रक्रिया पारंपरिक पॉलिशिंग के उप-सतह नुकसान से बचाती है। यह ईयूवी दर्पणों के लिए पिकोमीटर-पैमाने की सटीकता प्राप्त करने का एकमात्र ज्ञात तरीका है।
Teknik pabrikasi subtraktif dengan menembakkan berkas fokus ion gas mulia, biasanya argon, pada permukaan optik untuk mengikis material satu atom per waktu. Karena tanpa kontak fisik alat pada permukaan, proses ini menghindari kerusakan bawah permukaan akibat pemolesan konvensional. Ini satu-satunya metode yang mampu mencapai toleransi skala pikometer cermin EUV.
Technique de fabrication soustractive dans laquelle un faisceau focalisé d'ions de gaz rare (généralement de l'argon) balaie une surface optique pour pulvériser le matériau atome par atome. Aucun outil ne touchant la surface, le procédé évite les défauts sous-jacents du polissage classique. C'est la seule méthode connue pour obtenir la précision picométrique requise par les miroirs EUV.
一般にアルゴンなどの不活性ガス粒子の集束イオンビームを用いて、光学素子の表面を走査し、一度に原子1個分の薄さで材料を削り取る減法的な超精密加工技术。物理的な工具が表面に一切接触しないため、従来の機械的研磨で発生する素材表面下の微細な損傷を完全に防止できる。EUV反射鏡に要求されるピコメートル単位の極限の表面形状精度を達成できる、現在知られている唯一の加工方法である。
Технология ионно-лучевой полировки — субтрактивный метод обработки, при котором сфокусированный пучок ионов инертного газа (обычно аргона) сканирует оптическую поверхность, выбивая материал по одному атому. Поскольку инструмент не касается детали, метод исключает подповерхностные повреждения. Это единственный способ достичь пикометровой точности зеркал EUV.
Ein abtragendes Herstellungsverfahren, bei dem ein fokussierter Strahl von Edelgasionen (meist Argon) über eine optische Oberfläche gerastert wird, um Material Atom für Atom abzusprengen. Da kein Werkzeug die Oberfläche berührt, vermeidet das Verfahren die bei konventionellem Polieren auftretenden Risse unter der Oberfläche. Es ist die einzige Methode zur Erreichung der Pikometer-Toleranzen für EUV-Spiegel.
주로 아르곤 등 불활성 가스의 집속 이온빔을 광학 소자 표면에 주사하여 물질을 원자 한 개 단위로 깎아내는 감산기법 방식의 초정밀 가공 기술이다. 물리적인 공구가 재료 표면에 전혀 접촉하지 않기 때문에, 일반적인 기계 연마 시 발생하는 소재 내부 미세 손상을 원천 방지한다. 이는 극자외선 반사경 제작에 필수적인 피코미터 단위의 형상 정밀도 허용 오차를 맞춰낼 수 있는 유일한 가공법이다.