EUV lithography

使用13.5纳米极紫外光的显影工艺，在硅片上雕刻出远小于任何可见光系统所能达到尺寸的特征。其光学物镜系统由反射镜而非透镜构建，由奥伯科亨的蔡司半导体制造技术公司（Zeiss SMT）抛光至皮米级的平整度。荷兰的阿斯麦（ASML）将它们集成到用于印刷每颗前沿微芯片的机器中。

Proceso fotolitográfico que utiliza luz ultravioleta extrema a 13,5 nanómetros para plasmar patrones en obleas de silicio mucho más pequeños de lo que cualquier sistema de luz visible podría alcanzar. La columna óptica está construida con espejos en lugar de lentes, pulidos por Zeiss SMT en Oberkochen con una suavidad medida en decenas de picómetros. ASML en los Países Bajos los integra en las máquinas que imprimen cada chip de vanguardia.

عملية تصوير ضوئي تستخدم الأشعة فوق البنفسجية القصوى عند طول موجي 13.5 نانومتر لطباعة أنماط على رقاقات السيليكون أصغر بكثير مما يمكن لأي نظام ضوء مرئي الوصول إليه. يتم بناء العمود البصري من مرايا بدلاً من العدسات، ويتم صقلها بواسطة شركة "زايس إس إم تي" في أوبيركوشين بنعومة تُقاس بعشرات البيكومترات. وتقوم شركة "إيه إس إم إل" في هولندا بدمجها في الآلات التي تطبع كل شريحة ميكروية متطورة.

Processo fotolitográfico que usa luz ultravioleta extrema a 13,5 nanômetros para desenhar circuitos em wafers de silício muito menores do que qualquer sistema de luz visível poderia alcançar. A coluna óptica é construída com espelhos em vez de lentes, polidos pela Zeiss SMT em Oberkochen com uma suavidade medida em dezenas de picômetros. A ASML na Holanda integra-os nas máquinas que fabricam todos os microchips de última geração.

एक फोटोलिथोग्राफिक प्रक्रिया जो सिलिकॉन वेफर्स पर दृश्यमान-प्रकाश प्रणालियों की पहुंच से कहीं छोटे पैटर्न बनाने के लिए 13.5 नैनोमीटर के एक्सट्रीम-अल्ट्रावॉयलेट प्रकाश का उपयोग करती है। इसका ऑप्टिकल कॉलम लेंस के बजाय दर्पणों से बना है, जिसे ओबेरकोचेन में ज़ीस एसएमटी द्वारा पिकोमीटर के स्तर की चिकनाई तक पॉलिश किया जाता है। नीदरलैंड की एएसएमएल कंपनी इन्हें उन मशीनों में एकीकृत करती है जो हर अग्रणी माइक्रोचिप को प्रिंट करती हैं।

Proses fotolitografi yang menggunakan cahaya ultraviolet ekstrem pada panjang gelombang 13,5 nanometer untuk mempola fitur pada wafer silikon yang jauh lebih kecil daripada yang dapat dicapai oleh sistem cahaya tampak mana pun. Kolom optiknya dibangun dari cermin alih-alih lensa, dipoles oleh Zeiss SMT di Oberkochen hingga kehalusan berukuran puluhan pikometer. ASML di Belanda mengintegrasikannya ke dalam mesin yang mencetak setiap mikrocip tercanggih.

Procédé de photolithographie utilisant une lumière ultraviolette extrême de 13,5 nanomètres pour graver sur les plaques de silicium des motifs bien plus fins que ceux des systèmes à lumière visible. La colonne optique est constituée de miroirs plutôt que de lentilles, polis par Zeiss SMT à Oberkochen avec une précision de l'ordre de la dizaine de picomètres. ASML aux Pays-Bas les intègre dans les machines qui impriment les puces de pointe.

13.5ナノメートルの極端紫外線（EUV）を用いて、可視光システムでは到達不可能な超微細なパターンをシリコンウェハ上に露光する光リソグラフィ技術。光学系はレンズではなく反射鏡で構成され、オーバーコッヘンのツァイスSMTが数十ピコメートル単位の超高精度で研磨している。オランダのASMLがこれらを組み込み、最先端のマイクロチップを製造する露光装置を完成させる。

Процесс фотолитографии, использующий экстремальный ультрафиолет на длине волны 13,5 нанометров для формирования на кремниевых пластинах структур намного меньших, чем достижимо для систем видимого спектра. Оптический тракт собран из зеркал вместо линз, отполированных подразделением Zeiss SMT в Оберкохене до шероховатости в десятки пикометров. Нидерландская компания ASML лидирует в интеграции их в установки для печати передовых микросхем.

Ein fotolithografisches Verfahren, das extrem ultraviolettes Licht bei 13,5 Nanometern nutzt, um Strukturen auf Silizium-Wafern zu belichten, die weitaus kleiner sind, als es jedes sichtbare Lichtsystem könnte. Die Optik besteht aus Spiegeln statt Linsen, die von Zeiss SMT in Oberkochen auf eine Rauheit im Bereich von Pikometern poliert werden. ASML in den Niederlanden integriert sie in die Maschinen, die jeden modernen Mikrochip drucken.

13.5나노미터 파장의 극자외선(EUV)을 사용하여 가시광선 기반 시스템보다 훨씬 미세한 회로 패턴을 실리콘 웨이퍼 위에 그려내는 광노광 공정이다. 경통 안의 광학계는 렌즈 대신 거울들로 구성되며, 오버코헨에 위치한 자이스 SMT에서 수십 피코미터 수준의 오차로 정밀 연마한다. 네덜란드의 ASML은 이 반사경들을 첨단 마이크로칩을 인쇄하는 장비에 통합하여 제조한다.